METODOLOGIE CHIMICO-FISICHE PER LE NANOTECNOLOGIE

Il corso si propone di fornire conoscenze avanzate sulle metodologie per la preparazione e caratterizzazione di superfici e materiali micro e nano strutturati. 

In particolare, per quanto concerne:

- la conoscenza e capacità di comprensione, l'obiettivo è quello di apprendere i principi ed i fondamenti che stanno alla base delle methodologie di preparazione e delle techinche di caratterizzazione di superfici e materiali micro e nano strutturati;

- la capacità di applicare conoscenza e comprensione, l'obiettivo è quello di applicare quando imparato a lezione nel design di esperimenti volti alla preparazione e caratterizzazione di sistemi micro e nano strutturati; 

- l'autonomia di giudizio, l'obiettivo è quello di interpretare in maniera corretta dati scientifici sperimentali;

- la capacità di comunicare, l'obiettivo è quello di comunicare i concetti appresi a lezione, e più in generale argomenti scientifici, con proprietà di linguaggio, rigore ed esattezza;

- la capacità di proseguire lo studio in modo autonomo, l'obiettivo è quello di rendere gli studenti capaci di applicare le conoscenze apprese a lezione a tutte quelle situazioni  cherichiedono la messa a punto di esperimenti, dalla preparazione dei campioni alla loro caratterizzazione, in maniera critica e corretta.

I - Accenni dei processi di trasporto nei materiali.

Trasporto di massa e leggi della diffusione. 

II - Metodi per l’ottenimento di sistemi micro- e nano- strutturati.

Metodologie di patterning. Approcci top-down e bottom-up. Metodi litografici: litografia ottica, e-beam ed ion-beam lithography. Soft lithography. Metodologie di patterning non litografiche.

III - Tecniche per la caratterizzazione chimica spazialmente risolta di film sottili e superfici.

Metodi basati su fasci ionici. RBS, MEIS, LEIS. Spettrometria di massa di ioni secondari e tecniche correlate. Metodi basati sull’interazione con plasmi. D-MS e GD-OES. Spettroscopie di elettroni. Accenni di microscopia a forza atomica.

IV - Metodi avanzati di trattamento dati.

- Esempi di applicazione di plasmi

- Fattori che influenzano la risoluzione in un processo fotolitografico